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Gigaphoton，一家专注于半导体光刻光源制造的公司，宣布其微通孔加工光源"G300K"已成功交付给一家日本设备制造商，该公司专注于后端设备制造，集成系统已在美国的一家公司成功安装。
Gigaphoton将其在半导体光刻光源领域的专业知识应用于开发用于超精细剥蚀加工的光源，以满足先进封装工艺的需求。
G300K是一种基于KrF（248nm波长）的准分子激光器，集成于半导体封装基板的加工设备中。它提供高功率、高重复率和高可靠性的长寿命模块。该准分子激光器主要用于制造直径为10μm或更小的微通孔以及沟槽图案。预计它将被用于利用芯片组制造2.5D/3D封装，主要应用于AI芯片组。
Tatsuo Enami，Gigaphoton的总裁兼首席执行官表示：“在Gigaphoton，我们不仅在研发半导体光刻光源方面不断努力，还在探索准分子激光在其他领域的应用可能性。我们将继续加快研发步伐，拓展新领域。作为半导体制造行业的重要光源制造商，我们将通过持续的研发新工艺，推动准分子激光的进一步应用，为行业做出贡献。”
关于GIGAPHOTON
自2000年成立以来，GIGAPHOTON作为光源制造商，为全球半导体制造商提供了宝贵的解决方案。在从研发到制造、销售和维护服务的每一个阶段，GIGAPHOTON始终致力于提供世界一流的支持，从日常用户的角度出发。
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